財政部 稅務總局 國家發展改革委 工業和信息化部關于提高集成電路和工業母機企業研發費用加計扣除比例的公告

財政部 稅務總局 國家發展改革委 工業和信息化部公告2023年第44號

為進一步鼓勵企業研發創新，促進集成電路產業和工業母機產業高質量發展，現就有關企業研發費用稅前加計扣除政策公告如下：

一、集成電路企業和工業母機企業開展研發活動中實際發生的研發費用，未形成無形資產計入當期損益的，在按規定據實扣除的基礎上，在2023年1月1日至2027年12月31日期間，再按照實際發生額的120%在稅前扣除；形成無形資產的，在上述期間按照無形資產成本的220%在稅前攤銷。

二、第一條所稱集成電路企業是指國家鼓勵的集成電路生產、設計、裝備、材料、封裝、測試企業。具體按以下條件確定：

（一）國家鼓勵的集成電路生產企業是指符合《財政部 稅務總局 發展改革委 工業和信息化部關于促進集成電路產業和軟件產業高質量發展企業所得稅政策的公告》（財政部 稅務總局 發展改革委 工業和信息化部公告2020年第45號）第一條規定的生產企業或項目歸屬企業，企業清單由國家發展改革委、工業和信息化部會同財政部、稅務總局等部門制定。

（二）國家鼓勵的集成電路設計企業是指符合《財政部 稅務總局 發展改革委 工業和信息化部關于促進集成電路產業和軟件產業高質量發展企業所得稅政策的公告》（財政部 稅務總局 發展改革委 工業和信息化部公告2020年第45號）第四條規定的重點集成電路設計企業，企業清單由國家發展改革委、工業和信息化部會同財政部、稅務總局等部門制定。

（三）國家鼓勵的集成電路裝備、材料、封裝、測試企業是指符合《中華人民共和國工業和信息化部 國家發展改革委 財政部 國家稅務總局公告（2021年第9號）》規定條件的企業。如有更新，從其規定。

三、第一條所稱工業母機企業是指生產銷售符合本公告附件《先進工業母機產品基本標準》產品的企業，具體適用條件和企業清單由工業和信息化部會同國家發展改革委、財政部、稅務總局等部門制定。

四、企業享受研發費用加計扣除政策的其他政策口徑和管理要求，按照《財政部 國家稅務總局 科技部關于完善研究開發費用稅前加計扣除政策的通知》（財稅〔2015〕119號）、《財政部 稅務總局 科技部關于企業委托境外研究開發費用稅前加計扣除有關政策問題的通知》（財稅〔2018〕64號）等文件相關規定執行。

五、本公告規定的稅收優惠政策，采用清單管理的，由國家發展改革委、工業和信息化部于每年3月底前按規定向財政部、稅務總局提供上一年度可享受優惠的企業清單；不采取清單管理的，稅務機關可按《財政部 稅務總局 發展改革委 工業和信息化部關于促進集成電路產業和軟件產業高質量發展企業所得稅政策的公告》（財政部 稅務總局 發展改革委 工業和信息化部公告2020年第45號）規定的核查機制轉請發展改革、工業和信息化部門進行核查。

特此公告。

附件：先進工業母機產品基本標準

財政部

稅務總局

國家發展改革委

工業和信息化部

2023年9月12日

附件

先進工業母機產品基本標準

    一、金屬切削機床

    定位精度≤10微米/米，并安裝數控系統。

二、鑄造裝備

1.真空熔鑄裝備：坩堝容量≥50千克。

2.感應熔煉電爐：熔化量≥10噸。

3.粘土砂造型線：靜壓造型生產線造型效率≥100型/小時,砂箱尺寸1200毫米×1000毫米及以上；垂直造型線造型效率≥400型/小時。

4.大型自硬砂成套設備：處理能力≥60噸/小時的連續式混砂機，60噸級及以上振實臺、起模機。

5.高壓壓鑄機：合模力≥6000噸。

6.擠壓鑄造成套設備：鎖模力≥1000噸。

7.氣力輸送鑄造廢砂再生設備：處理能力30噸/小時以上，舊砂回用率水玻璃砂90%以上、樹脂砂94%以上。

三、鍛壓裝備

1.數控液壓機：公稱壓力≥1000噸。

2.數控多連桿機械壓力機：公稱壓力≥1000噸，沖壓生產線≥2000噸（總噸位）。

3.冷鍛機械壓力機：公稱壓力≥630噸。

4.熱模鍛壓力機：公稱壓力≥2000噸。

5.熱等靜壓裝備：有效熱區直徑≥1000毫米。

四、焊接裝備

1.數字化弧焊裝備：數控系統跟蹤補償精度0.1毫米—0.5毫米、焊接工藝參數波動小于2%—5%。

2.激光、電子束等高能束焊接裝備：機電協同控制精度1%、跟蹤補償精度0.1毫米—0.5毫米、焊接工藝參數波動小于2%。

3.慣性、攪拌摩擦焊及電阻焊裝備：機電協同控制精度1%、響應速度5毫秒—10毫秒；數控系統跟蹤補償精度0.05毫米—0.1毫米。

五、熱表處理裝備

1.真空熱處理裝備：裝爐量≥1噸。

2.控制氣氛熱處理裝備：裝爐量≥1噸。

3.絕緣柵雙極型晶體管電源感應熱處理裝備。

4.連續熱處理生產線：生產能力≥1噸/小時。

5.自動電鍍設備：行車上自帶獨立控制箱和主可編程邏輯控制器網絡通信，具備四軸運動能力。

6.低壓等離子噴涂設備：真空室尺寸≥Ф2000毫米×3000毫米,噴槍使用功率≥80千瓦。

7.溶液等離子噴涂設備：噴槍使用功率≥100千瓦,漿料輸送率≥0.5升/分。

8.真空鍍膜裝備：膜層不均勻性≤±10%，故障診斷節點數≥1000。

六、數控裝置

具備三軸及以上聯動控制功能。

    七、滾動功能部件（絲杠/導軌）

    P3精度以上。

    八、電主軸

    動態回轉精度≤10微米。

    九、數控轉臺

    定位精度≤15″。

    十、位置反饋元件（光柵尺/編碼器）

    直線準確度≤±3微米；旋轉準確度≤±2.5″。

    十一、擺角頭

    定位精度≤15″。

    十二、動力刀架刀庫

    分度精度≤±6″，換刀時間（T-T）≤2.5秒。

十三、真空系統

1.鍍膜機：整機漏率達到1.0×10^-8帕斯卡·升/秒量級，工作真空度保持時間≥6個月。

2.工業爐：漏率達到1.0×10^-7帕斯卡·升/秒量級，工作真空度保持時間≥6個月。 

來源：國家稅務總局網站 閱讀原文

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